公開專欄
員工獎酬股票緩課額度倍增為1,000萬元：2026年與2027年的股票如何適用
《產業創新條例》第19條之1於2026年9月30日公布修正，員工獎酬股票的年度緩課額度自2027年1月1日起由500萬元提高到1,000萬元。2026年交付、2027年才既得的限制員工權利新股，依條文文義落在2027年度，子法與函釋尚待確認。
閱讀專欄 →公司設立與投資放流水超標的一個下午，兩條法律路線：日月光K7案的刑事與行政判決
2013年日月光K7廠放流水超標一案，最高法院於2019年駁回四名廠務人員的上訴；最高行政法院於2017年則維持撤銷約1億元的水污染防治法罰鍰。兩份判決對停工權限與紀錄各有不同的啟示。
閱讀專欄 →公司設立與投資華為、中芯列入名單後：台灣半導體出口的許可界線
2025年華為、中芯等企業納入台灣出口實體管理名單，2026年名單仍持續增刪。設備、材料與IC設計業者的出貨判斷，須同時處理貨品分類、最終使用人與許可範圍；美國EAR則有另一套適用條件。
閱讀專欄 →簽證與居留半導體企業聘外籍工程師：聘僱許可、就業金卡與減稅
同一名外籍工程師，由公司申請聘僱許可或持本人就業金卡到職，審查與轉職規則不同。2025年修正的專法調整工作經驗及退休金制度；所得稅優惠仍取決於特殊專長、居留天數、薪資所得與申報程序。
閱讀專欄 →訴訟與糾紛聯發科跨境專利案：授權爭議為何分國進行
聯發科與華為的公開訴訟紀錄，呈現晶片供應商面對的授權層級、法院管轄與跨國程序問題。英國法院的管轄裁判並未決定侵權或權利金；台灣企業仍須分開處理契約、各地專利與判決執行。
閱讀專欄 →訴訟與糾紛國安法首例判決：前台積電工程師翻拍2奈米製程，四個罪名、共同正犯與法人罰金1億5,000萬元
智慧財產及商業法院2026年4月27日的國安法首例判決中，轉任設備商的前台積電工程師透過舊同事取得2奈米、14埃米製程檔案的翻拍照片，被認定共同或單獨擅自重製營業秘密；雇主是在台灣登記的子公司、翻拍地點都在台灣，仍成立意圖在外國使用，公司也被科罰金。
閱讀專欄 →公司設立與投資赴海外設廠的台灣半導體廠：投審會的核准門檻與產創條例第22條新制
台積電熊本二廠改產3奈米，經濟部投審會在2026年3月31日同意。現行公司國外投資處理辦法以新臺幣15億元為事前核准的門檻，並列出六種得不予核准的事由；2025年修正的產業創新條例第22條已公布，但施行日期由行政院另訂，到2026年10月3日仍未施行。
閱讀專欄 →勞動與僱傭半導體外派美日德：調動、薪資與返台後的競業限制
派赴海外新廠，要釐清原雇主是否繼續僱用、哪些給付屬於工資，以及提前返台的條件。外派同意書不能取代調動五原則，返台繼續任職與離職後的競業限制也須分開處理。
閱讀專欄 →進入台灣市場與人力配置半導體零組件企業進入台灣市場：在台子公司、分公司與代理商，該如何評估？
開始與台灣客戶交易後，海外總公司可能面臨各種要求：希望在台灣處理報價與契約、備妥緊急更換用庫存，或配置安裝與維修人員。這時，企業很容易先問：「在台灣設立公司，就能解決這些問題嗎？」 首先應釐清的是，在台灣由誰負責哪些事項。由海外總公司繼續簽訂銷售契約、由台灣公司買入商品後轉售，或僅由在台人員提供技術...
閱讀專欄 →